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IMTEC Accumeg 半導體納米 兆聲波清洗槽 UO1200PMCA 發生器，Accumeg™系統主要用于半導體晶圓（最大支持300毫米及以上）和電子元件的高精度清洗。其核心功能是利用兆聲波技術（頻率為975 kHz或730 kHz）進行濕法工藝處理，有效去除微小顆粒污染物。該設備提供石英和PVDF兩種槽體材質，具備高功率密度和溫度控制能力（最高達70°C或130°C）......

Kokusai 高頻超聲波清洗機 晶圓/光刻掩模用 UO1200PMCX，該產品主要用于半導體制造領域的高精度清洗，適用行業為半導體產業。其具體用途包括半導體晶圓、光刻掩模、裸片最終清洗以及半導體制造設備治具的清洗，旨在滿足微縮工藝下的低損傷、高潔凈度清洗需求。

Kokusai Electric晶圓兆聲波清洗機 振動板，UO1200PMCX 730kHz/1MHz，該產品是用于半導體制造的高頻超聲波振子，通過730kHz或1MHz頻率實現低損傷、高潔凈度清洗。主要適用于晶圓、光刻掩模等精密清洗環節，是半導體行業關鍵制程設備的核心組件。

德國sonosys 微顆粒無損 高頻超聲波清洗機 750kHz~4MHz，SONOSYS超音波清洗器利用20kHz~4MHz寬頻超音波振動，對精密部件進行高效清洗，其中高頻兆聲波（750kHz~4MHz）專攻亞微米級顆粒去除，同時不損傷工件表面，清洗時間約10~30分鐘，廣泛適用于半導體晶圓、光學鏡頭、MEMS傳感器、醫療器材及航空航天精密零件等對潔凈度和表面完整性要求非常高的行業。